Configuration avec cellule d'attaque électrochimique (etch cell) à double réservoir

Il s'agit d'une cellule à double réservoir montée horizontalement. L'usage type est l'anodisation de wafers de Si avec contact électrolytique à l'arrière. Elle est constituée de deux chambres étanches aux gaz, en polyétheréthercétone (PEEK), chacune équipée d'un wafer de saphir servant de fenêtre d'éclairage permettant la formation de Si poreux assistée par la lumière.

Elle convient bien pour les électrolytes aqueux (joints toriques en EPDM) et ceux à base de solvants organiques (joints toriques en caoutchouc perfluoré). Le substrat en Si est monté entre ces chambres et des joints toriques assurent l'étanchéité du support magnétique ou à vis. La préparation d'un substrat poreux de silicium complet est possible en une seule étape d'attaque assurant ainsi une grande reproductibilité.

Remarque : ce produit n'est pas disponible auprès de Metrohm Germany.