Configuración de células de grabado de doble depósito

Es una célula de doble depósito montada horizontalmente, que suele utilizarse para la anodización de obleas de silicio con contacto electrolítico en la parte posterior. Consiste en dos cámaras herméticas al gas de poliéter-éter-cetona (PEEK), cada una de las cuales está equipada con una oblea de zafiro que sirve de ventana para la iluminación y permite la formación de silicio poroso asistida por luz.

Se adapta bien a los requisitos de electrolitos acuosos (juntas tóricas de EPDM) y disolventes orgánicos (juntas tóricas de FFKM). El sustrato de silicio se monta entre estas cámaras y se sella con juntas tóricas bajo montaje magnético/roscado. La preparación de todo un sustrato de silicio poroso con esta célula es posible en un simple paso de grabado, lo que asegura una alta reproducibilidad.

Atención: este producto no está disponible en Metrohm Alemania.