Ätzzelle mit Doppelkammer

Hierbei handelt es sich um eine horizontal montierte Zelle mit Doppelkammer, die üblicherweise zum Anodisieren von Si-Wafern mit Elektrolyt-Rückseitenkontakt eingesetzt wird. Sie besteht aus zwei gasdichten Kammern aus Polyetheretherketon (PEEK), die jeweils über einen als Lichteinlass dienenden Saphirwafer verfügen, der die lichtgestützte Bildung von porösem Silizium ermöglicht.

Die Zelle erfüllt die Anforderungen für wässrige Elektrolyte (O-Ringe aus EPDM) und Elektrolyte aus organischen Lösungsmitteln (O-Ringe aus FFKM). Das Siliziumsubstrat wird zwischen diesen Kammern eingesetzt und mit O-Ringen an einer Magnet-/Schraubbefestigung abgedichtet. Mit dieser Zelle ist die Herstellung eines kompletten porösen Siliziumsubstrats in einem einfachen Ätzschritt möglich, sodass für eine hohe Reproduzierbarkeit gesorgt ist.

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