Applications

De nos jours, un nouveau type de matériaux énergétiques (explosifs) fait son apparition. Les nitrates aromatiques conventionnels sont toujours en usage, mais il existe un besoin urgent en techniques analytiques pour les matériaux énergétiques de la classe chimique des peroxydes, des composés azoïques, etc. Cette présentation démontre l’utilisation d’un système HPLC moderne (chromatographie en phase liquide à haute performance) avec un détecteur conventionnel (DAD), réalisant ainsi le couplage avec la spectrométrie de masse pour l’analyse des différentes classes mentionnées ci-dessus des matériaux énergétiques.

Les solutions de peroxyde d'hydrogène peuvent être déterminées par des titrages thermométriques à point final (TET) via l'iodométrie. L'iodure est oxydé en iode qui est ensuite titré avec une solution standard de thiosulfate par réaction exotherme.

La spectroscopie dans le visible et le proche infra-rouge (Vis-NIR) peut être appliquée aux détergents en tant que méthode d'analyse rapide et exacte de quantification de différents analytes et principes actifs comme la tétraacétyléthylènediamine (TAED), le percarbonate de sodium (PCS) et les enzymes. Cette Application Note décrit comment utiliser la NIRS pour des analyses à constituants multiples de détergents en une mesure unique.

In the HPPO – hydrogen peroxide to propylene oxide – process for propylene oxide production, hydrogen peroxide is analyzed using a complexing agent and a colorimetric measurement with dipping probe. Due to the hazardous environment, the online analyzer fulfills EU Directives 94/9/EC (ATEX95) and is certified for zone1 and zone2 areas.

Des règles d'hygiène strictes sont appliquées dans l'industrie alimentaire et le secteur des boissons. Toutes les surfaces des matériaux susceptibles d'entrer en contact avec des produits alimentaires ou des boissons doivent être désinfectées afin de garantir leur pureté bactériologique. On utilise fréquemment à cet effet de l'acide peracétique (APA) pour désinfecter rapidement les bouteilles en PET. Il faut ici veiller à un dosage correct de l'acide : trop d'APA altère le goût et génère des coûts inutiles suite à une consommation accrue et une concentration trop faible ne garantit pas, de son côté, un nettoyage satisfaisant. Un appareil d'analyse de process, spécialement configuré pour des analyses photométriques, peut déterminer avec exactitude la concentration en APA. Si la concentration diffère des spécifications, l'analyseur envoie un signal d'alarme au système de contrôle.

Les exploitations salmonicoles sont de plus en plus populaires. La forte croissance de la population augmente la demande en saumons, ce qui se répercute sur leur élevage. Dans les cages en pleine eau, ce sont de plus en plus de poissons qui vivent dans un espace très exigu. Du fait de la forte densité des poissons, des parasites, comme le poux de mer, peuvent proliférer rapidement. Une possibilité de pallier le problème des poux est d'utiliser des bains à faible concentration d'H2O2. Les saumons sont traités dans ces bains pendant environ 20 minutes jusqu'à ce que les poux de mer tombent et meurent. Le peroxyde d'hydrogène est certes rapidement dégradé, il n'en reste pas moins mortel pour le saumon à forte concentration. La concentration doit donc se situer dans les limites des spécifications pendant le traitement. Notre analyseur de process réalise chaque titrage en moins de deux minutes. Plusieurs déterminations de la concentration peuvent ainsi être menées à chaque traitement afin de toujours garantir un dosage correct.

The planarity and smoothness of silicon wafers are fundamental to manufacture optimal semiconductor devices, and Chemical Mechanical Planarization (CMP) is the most common technology used to achieve ultra-flat surfaces. A slurry is used for this purpose, composed of deionized water, a colloidal silicon or alumina liquid dispersion, and hydrogen peroxide, which has to be constantly monitored at all times.Online monitoring of the CMP process is necessary to avoid chemical waste and enhance wafer production yields. Metrohm Process Analytics can measure not only the H2O2 concentration, but also pH, conductivity, and temperature using the multipurpose 2060 Process Analyzer.

Rapid inline monitoring of the major SC1/SC2 bath constituents is possible with reagent-free near-infrared spectroscopy, e.g., the 2060 The NIR-R Analyzer.

Etching is a vital process in semiconductor fabrication, involving the chemical removal of layers from the wafer substrate. Strict quality control measures are necessary to determine acid etchant concentrations in mixed acid solutions (e.g., SPM, DSP, or DSP+), critical for optimizing etch rate, selectivity, and uniformity during multiple wafer etching steps. This application presents a method to measure sulfuric acid and hydrogen peroxide in etching baths simultaneously using Raman spectroscopy with the PTRam Analyzer from Metrohm Process Analytics.