Applikationen für Cyclic Voltammetric Stripping (CVS)
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS) ist eine elektrochemische Technik zur Analyse des Gehalts an organischen Additiven in Galvanikbädern. Unsere Experten haben verschiedene Application Notes zu CVS-Applikationen für verschiedene Additive zusammengestellt.
Nutzen Sie die Filter, um unsere Applikationen nach Analyt/Parameter, Probenmatrix oder Branche zu durchsuchen.
- AN-PAN-1067Online-Analyse organischer Additive im Verkupferungsprozess
Die Überwachung organischer Zusätze in Kupferbeschichtungsbädern ist von entscheidender Bedeutung. Der 2060 CVS Process Analyzer optimiert die galvanische Kupferbeschichtung durch präzise Badkontrolle.
- AN-EC-030Elektrochemie von Mikroelektroden: ein Vergleich mit Elektroden üblicher Größe
In dieser Application Note werden die elektrochemischen Eigenschaften von Elektroden mit mikrometergroßer Oberfläche mit den elektrochemischen Eigenschaften von Elektroden mit millimetergroßer Oberfläche verglichen. Der Vergleich erfolgt mittels zyklischer Voltammetrie in einer Fe3+/Fe2+ (Ferro/Ferri)-Lösung, und die Unterschiede in den Voltammogrammen werden mit den unterschiedlichen Diffusionsprofilen an der Elektroden-Elektrolyt-Grenzfläche erklärt.
- AN-V-202Suppressorbestimmung in sauren Kupferbädern mittels smartDT
Die Suppressorbestimmung mittels Verdünnungstitration (Dilution Titration, DT) verlangt zahlreiche Zugaben von Standardlösung oder Probe, bis zum Erreichen des Auswertungsverhältnisses. Normalerweise wird mit festen äquidistanten Zugabevolumina gearbeitet. Bei der smartDT werden variable Zugabevolumina, die automatisch durch die Software berechnet werden, verwendet. Anfangs sind die Volumina grösser. Zum Auswertungsverhältnis hin werden die Volumina kleiner, um genaue Resultate zu gewährleisten. Der Anwender bestimmt das erste und das kleinste Zugabevolumen. Alle restlichen Volumina werden durch die Software unter Berücksichtigung des Analysefortschritts berechnet. Die Verwendung der smartDT mit intelligenten Zugabevolumina beschleunigt die Suppressorbestimmung massgeblich. Dies mit derselben oder sogar noch besseren Genauigkeit als mit der klassischen DT. Die Zeitersparnis pro Bestimmung liegt zwischen 20 und 40 %.
- AN-V-145Suppressor «Solderon ST-200 Primary» (Rohm und Haas) in einem Zinnbad
Bestimmung von Suppressor «Solderon ST-200» Primary in einem Zinnbad durch Verdünnungstitration (DT) mittels zyklisch voltammetrischem Stripping (CVS).
- AN-V-137Suppressor «Cupraspeed» (Atotech) in einem sauren Kupfer-Bad
Bestimmung von Supressor «Cupraspeed» in sauren Kupferbädern durch Verdünnungstitration (DT) mittels zyklisch voltammetrischem Stripping (CVS).
- AN-V-182Suppressor «Top Lucina a-M» (Okuno Chemical Industries) in einem sauren Kupfer-Bad
Bestimmung von Suppressor «Top Lucina α-M» in sauren Kupferbädern durch Verdünnungstitration (DT) mittels zyklisch voltammetrischem Stripping (CVS).
- AN-V-141Suppressor «MACuSpec PPR 100 Wetter» (MacDermid) in einem sauren Kupfer-Bad
Bestimmung von Suppressor «MACuSpecTM PPR 100 Wetter» in sauren Kupferbädern durch Verdünnungstitration (DT) mittels zyklisch voltammetrischem Stripping (CVS).
- AN-V-133Suppressor «Copper Gleam 2001 Carrier» (Rohm und Haas) in einem sauren Kupfer-Bad
Bestimmung von Suppressor «Copper GleamTM 2001 Carrier» in sauren Kupferbädern durch Verdünnungstitration (DT) mittels zyklisch voltammetrischem Stripping (CVS).
- AN-V-184Leveler «Top Lucina a-3» (Okuno Chemical Industries) in einem sauren Cu-Bad
Bestimmung von Leveler «Top Lucina α-3» in sauren Kupferbädern durch Response Curve Technique (RC) mittels zyklisch voltammetrischem Stripping (CVS).
- AN-V-156Brightener «Thrucup EVF-1A» (Uyemura) in einem sauren Kupfer-Bad
Bestimmung von Brightener «Thru-Cup EVF-1A» in sauren Kupferbädern durch Modified Linear Approximation Technique (MLAT) mittels zyklisch voltammetrischem Stripping (CVS).
