AN-V-182

酸性铜槽液中的抑制剂«Top Lucina a-M»（Okuno Chemical Industries）

概要

采用循环溶出伏安法（CVS）使用稀释滴定技术（DT）测定酸性铜槽液中的抑制剂«Top Lucina α-M。

Download AN-V-182 (EN)

聯絡我們

Metrohm AG

Ionenstrasse
9100 Herisau

聯絡我們

尋找應用

優化您的搜尋

此應用已被標記為

// Plating baths – copper