AN-S-209

一种铬电镀槽液中的氟离子，甲磺酸，ethyldisulfonic acid和methyldisulfonic acid.

概要

采用化学抑制后电导检测的阴离子色谱法测定氟离子，MSA（甲磺酸），EDSA （ethyldisulfonic acid）和MDSA（methyldisulfonic acid）。

Download AN-S-209 (ZH)

聯絡我們

Metrohm AG

Ionenstrasse
9100 Herisau

聯絡我們

尋找應用

優化您的搜尋(231)

此應用已被標記為

// Plating baths – other metals// Acids – organic

镀金液中金（I）的伏安法测定

// Plating & galvanics 電鍍與鍍層 // Transition metals – silver, gold, platinum, palladium, rhodium 過渡金屬 – 銀、金、鉑、鈀、銠 // Plating baths – other metals 電鍍槽 – 其他金屬

铜电解溶液中硫脲的测定

// Metals & mining 金屬與礦業 // Nitrogen – amines, amides 氮 – 胺、醯胺 // Nitrogen – organic 氮 – 有機

冰醋酸中碘化物的测定

// Halogens – fluoride, bromide, iodide 鹵素 – 氟化物、溴化物、碘化物 // Chemical 化學品 // Basic chemicals 基礎化學品

利用拉曼光谱在线监测电镀液中的络合剂

// Plating baths – nickel 電鍍槽 – 鎳 // Process analysis 線上製程分析 // Nitrogen – amines, amides 氮 – 胺、醯胺

2 / 4