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Control de calidad de los procesos de pretratamiento de obleas de semiconductores con NIRS en línea

12 dic 2022

Artículo

Los semiconductores son los componentes fundamentales de los productos electrónicos modernos. La limpieza es crucial dentro de una instalación de fabricación de semiconductores, considerando la escala de las superficies de trabajo (nanómetros). Los contaminantes de todo tipo pueden provocar defectos, lo que lleva a los fabricantes a implementar procedimientos de control de producción extremadamente estrictos y precisos con alta reproducibilidad, especialmente durante uno de los pasos de producción más importantes: el tratamiento de la superficie de la oblea con baños de grabado y limpieza para eliminar las impurezas y texturizar la superficie. Este artículo destaca los beneficios para los fabricantes de semiconductores al implementar la espectroscopia de infrarrojo cercano (NIRS) en los procesos de pretratamiento de obleas para el análisis en tiempo real, el 100 % de trazabilidad, la seguridad óptima del producto y el máximo rendimiento del portador de obleas.

Vista cercana de una oblea de silicio. Cada cuadrado en miniatura es un chip con transistores y circuitos microscópicos.
Vista cercana de una oblea de silicio. Cada cuadrado en miniatura es un chip con transistores y circuitos microscópicos.

¿Le gustaría saber más sobre cómo funciona la espectroscopia NIR? Echa un vistazo a algunas de nuestras otras publicaciones de blog:

Preguntas frecuentes sobre el análisis de espectroscopia de infrarrojo cercano - Parte 1

Beneficios de la espectroscopia NIR: Parte 2

Equipar bancos húmedos semiconductores con un 2060 los Analizador NIR

En una instalación de fabricación de semiconductores, una unidad típica de banco húmedo consta de varios baños individuales con fines específicos (es decir, grabado químico, limpieza y enjuague). Para estas tareas, cada línea de proceso requiere diferentes mezclas de ácidos o bases o varios componentes orgánicos. Figura 1 ilustra la configuración típica de un banco húmedo con una de varias configuraciones disponibles para el 2060 los Analizador NIR de Metrohm Process Analytics.

Este ejemplo incluye el baño de grabado AF Aderezo (ácido fluorhídrico con un cierto nivel de concentración que se basa en una tasa de grabado específica), SC1 (tratamiento estándar de limpieza consistente en hidróxido de amonio y peróxido de hidrógeno en agua), SC2 (tratamiento estándar de limpieza consistente en ácido clorhídrico y peróxido de hidrógeno en agua), HotPhos (ácido fosfórico en agua), y otros (pasos de enjuague que no son monitoreados con NIRS).